工程案例

掩模版主要厂商市场占有率包括国外企业和国内企业

  材料市场的13%。预计全球半导体掩模版市场可在2018年达到35.7亿美元。

  伴随半导体厂商相继在中国新建工厂,中国在全球市场上存在感日益增强。据SEMI介绍,2017年中国的掩模板需求占全球的3%。 有观点认为,2020年这一数字将提高至20%。

  目前国际上生产光掩膜板的企业中包括日本凸版印刷TOPAN、日本大印刷,美国Photronics,日本豪雅HOYA,日本SK电子,***光罩等。其中凸版印刷、大日本印刷与Photronic三家的全球市占率达80%以上。此外,晶圆制造企业也会采取自制策略对内提供掩模版,包括英特尔三星、台积电等均有自制掩模版业务。

  2004年10月日本凸版印刷以89亿美元收购美国杜邦光掩模,成为全世界最大的掩模版供应商,全球市占超过30%。

  日本凸版印刷在中国的市场占有率约为50%,此前从日本或***的生产基地向大陆出口最新的掩模板,而在上生产的掩模板线年度内生产支持14nm产品。投资额可能会达到数十亿日元。

  大日本印刷(DNP)和美商Photronics在厦门合资成立美日丰创光罩,引进40/28纳米制程,未来5年内将投资1.6亿美元。预计在2018年底开始生产。投产后初期每月产能为600片,1年后将增产到1200片到1500片。

  Photronics作为全球领先的掩膜版厂商,主要生产60nm及以上制程的光罩,2014年营收达到4.56亿美元,净利润3202万美元。

  ***光罩主要生产和供应相对低端的0.25微米、0.18微米、0.15微米、0.13微米、0.11微米和90纳米制程的光罩,2014年营收达到4411万美元,净利润191万美元。

  目前国内的掩膜版厂商大致上可以分为3类:第一类是科研院所,主要有中科院微电子中心,中国电子科技集团第13所、24所、47所、55所等;第二类是专业的掩膜版制造厂商,主要有华润微电子、无锡中微掩模、苏州制版、湖北菲利华。第三类是晶圆代工厂,例如中芯国际,中芯国际的制版能力也处于国际较先进的水平。

  无锡华润微电子有限公司掩模工厂(华润掩模)是国内最早从事光掩模制造的专业企业。可提供0.18um及以上Stepper掩模。

  无锡中微掩模电子有限公司(简称“中微掩模),是一家从事0.13μm水平以上的高端集成电路掩模制造技术开发和生产的专业公司。

  苏州制版提供全系列石英、苏打玻璃铬掩膜版,制版最小线 m^2,满足从高精尖科学研究到大规模企业量产的全方位需求。

  湖北菲利华石英玻璃股份有限公司始建于1966年,是国内外具有较大影响力和规模优势的石英材料及石英纤维制造企业,全球少数几家具有石英纤维批量生产能力的制造商,中国航空航天等国防军工领域唯一的石英纤维供应商。近年拓展掩模版业务,2016-2017年公司的光掩模基板销售稳步增长,2016年产值已突破千万。

  2016年,投资675亿人民币的中芯国际“新建12寸集成电路先进工艺生产线”项目和配套建设的高端光掩模生产线等新增总投资近千亿元人民币项目启动仪式在上海浦东新区举行。

  文章出处:【微信号:sensors-iot,微信公众号:sensors-iot】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。

  、并购、扩张等 报告摘要 本文侧重研究全球自动方向电压转换器总体规模及

  迅速拓展。实际上,其产品大范围的应用于特斯拉Model 3及Y、宝马、MG、梅赛德斯-奔驰、沃尔沃等知名品牌汽车,近期还为现代汽车全新科纳和起亚雷电动汽车

  的收入来源,且营收和营收占比呈现逐年递增的趋势。龙图光罩指出,在功率半导体

  国产化的先锋 /

  、掩膜版、掩膜板等,是光刻工艺中核心部件之一,是下业产品制作的完整过程中的图形“底片”转移用的高精密工具

  (光罩MASK)—半导体芯片的母板设计 /

  制造难度日益增加,耗费的资金成本从数十万到上亿,呈指数级增长,同时生产

  质量 /

  :在第三季度连发三款产品,其中Magic V2凭借强劲的产品力成为当季的折叠屏单品

  第一 /

  大力投入IGBT行业,产业化水平有了一定的提升,目前在部分领域已经实现了技术突破和国产化,未来进口替代空间巨大。 新参与者

  是国际MCU供应商,比如瑞萨电子、英飞凌、恩智浦、ST、TI、Microchip这6家就占据了90%以上的

  有产品推出 /

  集中度进一步提升。一方面,施耐德、ABB、伊顿、正泰等业务实力丰沛雄厚,抗风险能力较强,另一方面,头部

  分析 /

  蓄势待发 根据Bishop&Associates 数据,2019 年全球连接器公司以欧美和日本

  华为2023年财报出炉:净利润大增144%至870亿,终端业务营收增长17.3%

  AMD Versal AI Edge自适应计算加速平台之LVDS液晶屏显示实验(5)